ताइवान सेमीकंडक्टर मैन्युफैक्चरिंग कंपनी (टीएसएमसी) ने अभी आधिकारिक तौर पर इसका अनावरण किया है 2nm नोड, जिसे N2 करार दिया गया। 2025 में किसी समय रिलीज़ होने के लिए तैयार, नई प्रक्रिया एक नई विनिर्माण तकनीक पेश करेगी।
टीएसएमसी के टीज़र के अनुसार, 2nm प्रक्रिया या तो अपने पूर्ववर्ती की तुलना में शुद्ध प्रदर्शन में वृद्धि प्रदान करेगी, या, जब समान पावर स्तरों पर उपयोग किया जाएगा, तो यह अधिक पावर-कुशल होगी।
टीएसएमसी ने नई 2एन तकनीक के बारे में विस्तार से बात की और इसके आर्किटेक्चर की आंतरिक कार्यप्रणाली के बारे में बताया। 2N गेट-ऑल-अराउंड फील्ड-इफ़ेक्ट ट्रांजिस्टर (GAAFETs) का उपयोग करने वाला TSMC का पहला नोड होने जा रहा है और N3E नोड पर चिप घनत्व को 1.1 गुना बढ़ा देगा। 2N के रिलीज़ होने से पहले, TSMC 3nm चिप्स लॉन्च करेगा, जिसे 2022 TSMC प्रौद्योगिकी संगोष्ठी में भी छेड़ा गया है।
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3nm नोड पांच अलग-अलग स्तरों में आने वाला है, और प्रत्येक नई रिलीज़ के साथ, ट्रांजिस्टर की संख्या बढ़ जाएगी, जिससे चिप का प्रदर्शन और दक्षता बढ़ जाएगी। N3 से शुरू करके, TSMC बाद में N3E (एन्हांस्ड), N3P (परफॉर्मेंस एन्हांस्ड), N3S (डेंसिटी एन्हांस्ड), और अंत में, "अल्ट्रा-हाई परफॉर्मेंस" N3X जारी करेगा। कहा जाता है कि पहले 3nm चिप्स इस साल की दूसरी छमाही में लॉन्च होंगे।
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जबकि लॉन्च की तारीख के मामले में 3nm प्रक्रिया हमारे करीब है, यह 2nm है जो थोड़ा अधिक दिलचस्प है, भले ही इसमें अभी भी कुछ साल दूर हैं। 2nm नोड के साथ TSMC का लक्ष्य स्पष्ट प्रतीत होता है - आउटपुट और दक्षता दोनों के उच्च स्तर को सक्षम करने के लिए प्रदर्शन-प्रति-वाट बढ़ाना। समग्र रूप से वास्तुकला में इसकी अनुशंसा करने के लिए बहुत कुछ है। आइए एक उदाहरण के रूप में GAA नैनोशीट ट्रांजिस्टर लें। उनके पास चारों ओर से द्वारों से घिरी हुई नालियाँ हैं। इससे रिसाव कम होगा, लेकिन चैनलों को चौड़ा भी किया जा सकता है, और इससे प्रदर्शन में वृद्धि होती है। वैकल्पिक रूप से, बिजली लागत को अनुकूलित करने के लिए चैनलों को छोटा किया जा सकता है।
N3 और N2 दोनों की तुलना में प्रदर्शन में काफी वृद्धि होगी वर्तमान N5, और ये सभी प्रति-वाट प्रदर्शन के साथ बिजली की खपत को संतुलित करने का विकल्प देते हैं। उदाहरण के तौर पर (पहली बार साझा किया गया)। टॉम का हार्डवेयर), N3 की N5 से तुलना करने पर कच्चे प्रदर्शन में 15% तक की बढ़त होती है, और समान आवृत्ति पर उपयोग करने पर 30% तक बिजली की कमी होती है। एन3ई उन संख्याओं को क्रमशः 18% और 34% तक और भी आगे ले आएगा।
अब, N2 वह जगह है जहां चीजें रोमांचक होने लगती हैं। हम N3E नोड के समान पावर ड्रॉ पर उपयोग करने पर 15% तक प्रदर्शन में वृद्धि देखने की उम्मीद कर सकते हैं, और यदि आवृत्ति को N3E द्वारा प्रदान किए गए स्तरों पर लाया जाता है, N2 30% तक कम शक्ति प्रदान करेगा उपभोग।
N2 का उपयोग कहाँ किया जाएगा? यह संभवतः मोबाइल सिस्टम-ऑन-ए-चिप्स (एसओसी) से लेकर उन्नत तक सभी प्रकार के चिप्स में अपना रास्ता खोज लेगा। ग्राफिक्स कार्ड, और समान रूप से उन्नत प्रोसेसर। TSMC ने उल्लेख किया है कि 2nm प्रक्रिया की विशेषताओं में से एक "चिपलेट एकीकरण" है। इसका अर्थ यह है कि कई निर्माता अपने में और भी अधिक शक्ति पैक करने के लिए मल्टी-चिपलेट पैकेज का उपयोग करने के लिए N2 का उपयोग कर सकते हैं चिप्स.
छोटे प्रक्रिया नोड कभी भी बुरी चीज़ नहीं होते हैं। N2, एक बार यहां आ जाने के बाद, हार्डवेयर सहित सभी प्रकार के लिए उच्च प्रदर्शन प्रदान करेगा सर्वोत्तम सीपीयू और जीपीयू, बिजली की खपत और थर्मल का अनुकूलन करते हुए। हालाँकि, जब तक ऐसा नहीं होता, हमें इंतज़ार करना होगा। टीएसएमसी 2025 तक बड़े पैमाने पर उत्पादन शुरू नहीं करेगा, इसलिए वास्तविक रूप से, हमें 2026 से पहले 2एनएम-आधारित उपकरणों को बाजार में प्रवेश करते देखने की संभावना नहीं है।
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